回首往事，從1980年國(guó)產(chǎn)步進(jìn)機(jī)第一號(hào)問(wèn)世以來(lái)，步進(jìn)機(jī)已經(jīng)銷售了近8 000臺(tái)，其中多數(shù)都在生產(chǎn)第一線運(yùn)轉(zhuǎn)著。

一號(hào)機(jī)誕生那會(huì)兒，半導(dǎo)體設(shè)備最小的電路尺寸是1.5微米（1微米是一百萬(wàn)分之一米），現(xiàn)在是0.04微米（45納米），縮小到原來(lái)的1/40。與之相配套，電路蝕刻的精度也大大提高，現(xiàn)在的精度已經(jīng)超過(guò)6~7納米（可視波長(zhǎng)的1/100）。在價(jià)格上，最早一臺(tái)是1.5億日元左右，現(xiàn)在最先進(jìn)的步進(jìn)機(jī)售價(jià)超過(guò)了40億日元。隨著機(jī)械的復(fù)雜程度和精確度的提高，價(jià)格也有了兩位數(shù)的增長(zhǎng)，令人不由感慨今非昔比。

最近的步進(jìn)機(jī)也被稱為“掃描式步進(jìn)機(jī)”或者“掃描機(jī)”，是由相當(dāng)于原板的光掩膜，以及要把光掩膜上的電路圖轉(zhuǎn)印過(guò)去的平臺(tái)上的晶片，以四比一的速度逆向行進(jìn)，同時(shí)借助狹縫狀的照明曝光的設(shè)備。光掩膜的行進(jìn)速度是每秒兩米的高速度，從旁邊看會(huì)相當(dāng)駭人。

關(guān)于步進(jìn)機(jī)的運(yùn)作，從光掩膜與裝載著晶片的平臺(tái)在行進(jìn)時(shí)要求的精度進(jìn)行思考就更好理解了。要把45納米超精細(xì)半導(dǎo)體設(shè)備正確成像在晶體上，對(duì)精度的要求是6~7納米。這就好比兩架戰(zhàn)斗機(jī)以2馬赫的速度一前一后行駛，同時(shí)兩機(jī)中間夾著一只跳蚤，行駛過(guò)程中既不能讓跳蚤掉下去，又不能把跳蚤擠死——就相當(dāng)于這樣的精度。