激光熱敏光刻：原理與方法

定　價(jià)：￥129.00

作　者：	魏勁松著
出版社：	清華大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：	變革性光科學(xué)與技術(shù)叢書
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787302607458	出版時(shí)間：	2022-09-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：	236	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書首先對目前各種光刻技術(shù)的原理、方法和特點(diǎn)進(jìn)行描述與分析比較，由此引出本書的主題——激光熱敏光刻；然后詳細(xì)闡述激光熱敏光刻的物理過程、儀器系統(tǒng)、光刻策略、用于超越光斑尺寸的納米光刻、跨尺度光刻、寬波段光刻、分辨率極限光刻、灰度圖形光刻，以及圖形轉(zhuǎn)移的方法和相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果及應(yīng)用事例。希望本書闡述的內(nèi)容能從另一個(gè)角度分析和理解光刻，從而給目前的光刻技術(shù)帶來變革性影響，以滿足未來個(gè)性化和智能化的微電子芯片與微納結(jié)構(gòu)光電子器件的需求。

作者簡介

　　魏勁松，男，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所，博士，研究員，中國科學(xué)院大學(xué)（國科大）教授，光學(xué)工程/材料學(xué)專業(yè)的博士生導(dǎo)師（國科大），華東師范大學(xué)和上海大學(xué)微電子學(xué)院聯(lián)聘教授。主要從事激光熱敏光刻、大數(shù)據(jù)存儲、高速光學(xué)顯微鏡成像技術(shù)研究、以及相關(guān)的光學(xué)儀器的設(shè)計(jì)與研制。發(fā)表論文近150篇，申請國家發(fā)明專利50余項(xiàng)，已經(jīng)授權(quán)30余項(xiàng)。受邀在Springer等出版英文著作3部[英文專著2部（唯一作者），英文編著1部（唯一編輯）。研究結(jié)果多次被國內(nèi)外刊物（如Nature Photonics）報(bào)道。2005和2010年分別當(dāng)選上海市科技啟明星（A類）和啟明星跟蹤，獲得中國出版協(xié)會等組織的2015年度輸出版優(yōu)秀圖書獎，提出的《無極限跨尺度的激光熱模光刻與系統(tǒng)集成》獲2018年度首屆“率先杯”未來創(chuàng)新技術(shù)大賽決賽優(yōu)勝獎。中國科學(xué)院和上海市優(yōu)秀博士論文評審專家，Springer出版社學(xué)術(shù)著作評審專家，《光學(xué)學(xué)報(bào)》光刻、成像和光存儲領(lǐng)域的主題編輯（TE），國家領(lǐng)軍人才等項(xiàng)目評審專家。主持國家自然科學(xué)基金重大儀器、國家重大工程項(xiàng)目、華為技術(shù)有限公司Top項(xiàng)目，中科院重點(diǎn)儀器以及相關(guān)人才項(xiàng)目等20余項(xiàng)，培養(yǎng)博士碩士研究生30余名。

圖書目錄

第1章光刻技術(shù)研究現(xiàn)狀

1.1引言

1.2光刻方法

1.2.1掩模曝光技術(shù)

1.2.2無掩模光刻

1.2.3光刻技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)

1.3光敏光刻膠材料

1.3.1有機(jī)光刻膠薄膜

1.3.2S/Se基硫系薄膜

1.4本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第2章激光熱敏光刻原理

2.1引言

2.2光學(xué)光敏光刻

2.3激光熱敏光刻

2.3.1原子尺度的線邊緣粗糙度

2.3.2無衍射極限光刻

2.3.3跨尺度光刻

2.3.4寬波段光刻

2.3.5正性光刻膠與負(fù)性光刻膠的相互轉(zhuǎn)化

2.4硫系化合物快速相變機(jī)理

2.4.1傘滑躍模型

2.4.2多元環(huán)模型

2.5激光熱敏光刻與光學(xué)光敏光刻比較

2.6本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第3章高速旋轉(zhuǎn)型激光熱敏光刻系統(tǒng)

3.1引言

3.2系統(tǒng)基本架構(gòu)

3.3伺服跟蹤模塊

3.3.1基于雙柱面鏡的像散法原理

3.3.2聚焦誤差信號理論分析

3.3.3計(jì)算與仿真結(jié)果

3.3.4伺服跟蹤模塊測試

3.3.5伺服跟蹤模塊實(shí)驗(yàn)結(jié)果

3.4樣品運(yùn)動誤差測試模塊

3.4.1基于單柱面鏡的像散法

3.4.2小孔尋焦法的理論分析

3.4.3樣品運(yùn)動臺的平面度測試系統(tǒng)

3.4.4樣品臺的運(yùn)動平面度測試

3.5極坐標(biāo)系統(tǒng)圖形發(fā)生器

3.6任意圖形刻寫的實(shí)驗(yàn)結(jié)果

3.7本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第4章激光熱敏光刻中的熱擴(kuò)散調(diào)控

4.1引言

4.2激光熱敏光刻中的熱擴(kuò)散效應(yīng)

4.3改變熱敏光刻膠的熱物特性調(diào)控?zé)釘U(kuò)散通道

4.3.1熱擴(kuò)散系數(shù)

4.3.2薄膜厚度

4.4通過熱傳導(dǎo)層調(diào)控?zé)釘U(kuò)散通道

4.4.1下Si層對熱斑的影響

4.4.2上Si層對熱斑的影響

4.4.3上Si層與下Si層共同調(diào)控?zé)岚?br />
4.5曝光時(shí)間的影響

4.5.1高速刻寫

4.5.2短脈沖曝光刻寫

4.5.3激光熱敏光刻方案的優(yōu)化

4.6本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第5章硫化物熱敏光刻膠薄膜與激光熱敏光刻

5.1引言

5.2Te基硫化物熱敏光刻膠

5.2.1AgInSbTe熱敏光刻膠

5.2.2GeSbTe光刻膠

5.2.3TeOx光刻膠

5.3高速激光熱敏納米光刻

5.3.1光熱局域化分析

5.3.2基于高速旋轉(zhuǎn)縮短曝光時(shí)間

5.3.3激光熱敏納米光刻

5.4激光熱敏光刻的任意特征尺寸調(diào)整

5.4.1仿真和分析

5.4.2跨尺度圖形結(jié)構(gòu)制造

5.4.3復(fù)雜圖形結(jié)構(gòu)制造

5.5本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第6章基于有機(jī)薄膜的激光熱敏光刻

6.1引言

6.2基于熱汽化與變形的熱敏光刻

6.2.1分子結(jié)構(gòu)分析

6.2.2熱學(xué)性質(zhì)

6.2.3光學(xué)性質(zhì)

6.2.4光熱局域化響應(yīng)的理論分析

6.2.5光刻的物理圖像

6.2.6光刻圖形結(jié)構(gòu)

6.3熱汽化誘導(dǎo)的一次性光刻

6.4基于熱交聯(lián)效應(yīng)的光刻

6.4.1聚焦光斑誘導(dǎo)局域曝光后烘技術(shù)

6.4.2不同曝光功率誘導(dǎo)的光敏光刻與熱敏光刻轉(zhuǎn)變

6.5本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第7章透明薄膜的激光熱敏光刻

7.1引言

7.2透明薄膜的激光熱敏光刻原理

7.3透明薄膜的光熱性質(zhì)

7.4ZnSSiO2薄膜的選擇性濕刻機(jī)理

7.4.1鍵合模型

7.4.2包層模型

7.5光吸收層輔助的微納光刻

7.5.1AgInSbTe作為光吸收層

7.5.2Ge作為光吸收層

7.5.3無定形Si作為光吸收層

7.5.4AlNiGd金屬玻璃作為光吸收層

7.6AgOx作為光吸收層直接圖形化

7.7本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第8章激光熱敏灰度光刻與彩色打印

8.1引言

8.2基于微納結(jié)構(gòu)的激光灰度光刻

8.2.1馬蘭戈尼效應(yīng)實(shí)現(xiàn)微納圖形化

8.2.2內(nèi)部汽化膨脹形成鼓包圖形

8.2.3利用激光誘導(dǎo)微納結(jié)構(gòu)進(jìn)行灰度光刻

8.3基于結(jié)晶效應(yīng)的激光灰度光刻

8.3.1激光能量誘導(dǎo)的反射率變化

8.3.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的灰度光刻

8.3.3Ge2Sb2Te5薄膜灰度光刻的應(yīng)用

8.4基于TeOx結(jié)構(gòu)演化的灰度光刻

8.4.1結(jié)構(gòu)演化特性

8.4.2結(jié)構(gòu)演化誘導(dǎo)灰度圖形

8.5其他灰度光刻方法

8.5.1表面氧化

8.5.2晶粒細(xì)化

8.6激光熱敏彩色打印

8.6.1基于Sb2Te3薄膜的彩色打印

8.6.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的彩色打印

8.7本章小結(jié)

參考文獻(xiàn)

第9章激光熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.1引言

9.2基于ICP/RIE的圖形轉(zhuǎn)移

9.2.1無機(jī)熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.2.2有機(jī)熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.3基于刻蝕技術(shù)的GaAs圖形轉(zhuǎn)移

9.4基于光存儲技術(shù)的圖形轉(zhuǎn)移

9.4.1電鍍

9.4.2直接模板壓印

9.4.3RIE轉(zhuǎn)移

參考文獻(xiàn)

索引