薄膜真空沉積中的等離子體探測(cè)方法與技術(shù)

定　價(jià)：￥78.00

作　者：	陳吉堃著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

購(gòu)買這本書(shū)可以去

ISBN：	9787030699152	出版時(shí)間：	2021-10-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：	148	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　低溫等離子體被廣泛應(yīng)用于脈沖激光沉積、磁控濺射、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等現(xiàn)代半導(dǎo)體薄膜真空沉積技術(shù)中，并承擔(dān)著薄膜組分物質(zhì)輸運(yùn)、薄膜形核與生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)調(diào)控等關(guān)鍵性角色。由于等離子體性質(zhì)是聯(lián)系薄膜真空沉積條件與沉積性能的關(guān)鍵性紐帶，以對(duì)等離子體性質(zhì)的表征與探測(cè)為突破口并建立其與薄膜沉積條件和性能之間的基礎(chǔ)關(guān)系，有助于從理論角度為薄膜沉積條件的設(shè)計(jì)與動(dòng)力學(xué)過(guò)程優(yōu)化提供依據(jù)。《薄膜真空沉積中的等離子體探測(cè)方法與技術(shù)》結(jié)合作者的長(zhǎng)期相關(guān)研究系統(tǒng)介紹了低溫等離子體的常用探測(cè)方法；重點(diǎn)結(jié)合脈沖激光沉積實(shí)例對(duì)等離子體與背景氣體間復(fù)雜的物理碰撞與化學(xué)反應(yīng)，以及對(duì)薄膜沉積的基礎(chǔ)性影響關(guān)系作詳細(xì)介紹。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《薄膜真空沉積中的等離子體探測(cè)方法與技術(shù)》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

目錄
前言
第1章等離子體技術(shù)與薄膜真空沉積 1
1.1 低溫等離子體概述 1
1.2 低溫等離子體的產(chǎn)生 4
1.3 應(yīng)用等離子體技術(shù)的薄膜真空沉積方法 7
1.4 低溫等離子體的測(cè)量與表征方法 15
1.5 應(yīng)用于薄膜真空沉積的等離子體綜合探測(cè)平臺(tái) 17
1.6 本章小結(jié) 22
參考文獻(xiàn) 22
第2章等離子體的直接探測(cè)技術(shù) 24
2.1 朗繆爾探針技術(shù) 24
2.2 應(yīng)用于低溫等離子體探測(cè)的質(zhì)譜技術(shù)概述 32
2.3 本章小結(jié) 35
參考文獻(xiàn) 36
第3章等離子體的間接表征技術(shù) 37
3.1 發(fā)射光譜技術(shù) 37
3.2 等離子體成像技術(shù) 46
3.3 本章小結(jié) 49
參考文獻(xiàn) 49
第4章脈沖激光沉積（1）：激光誘導(dǎo)等離子體的初始性質(zhì) 50
4.1 脈沖激光誘導(dǎo)等離子體的產(chǎn)生與傳播機(jī)理 51
4.2 脈沖激光誘導(dǎo)初始等離子體的離子特性 59
4.3 脈沖激光誘導(dǎo)等離子體中的電子性質(zhì) 63
4.4 脈沖激光誘導(dǎo)非金屬單質(zhì)的等離子體性質(zhì) 70
4.5 脈沖激光沉積法生長(zhǎng)合金化合物 75
4.6 本章小結(jié) 78
參考文獻(xiàn) 78
第5章脈沖激光沉積（2）：等離子體與背景氣體的物理作用 80
5.1 等離子體與背景氣體間的相互作用 80
5.2 氣體平均碰撞自由程與等離子體傳輸模式 81
5.3 氧化性背景氣體壓力對(duì)脈沖激光沉積的影響關(guān)系 85
5.4 惰性氣體壓力對(duì)脈沖激光沉積的影響關(guān)系 88
5.5 盧瑟福背散射與彈性反沖探測(cè)分析技術(shù) 93
5.6 本章小結(jié) 95
參考文獻(xiàn) 95
第6章脈沖激光沉積（3）：等離子體與背景氣體間化學(xué)反應(yīng) 97
6.1 氧氣背景氣體壓力對(duì)等離子體組分的調(diào)控關(guān)系 97
6.2 氧氣下脈沖激光沉積切削能量密度對(duì)等離子體組分的調(diào)控關(guān)系 104
6.3 氧氣背景氣體下脈沖激光沉積中金屬元素的普適性氧化規(guī)律 107
6.4 脈沖激光沉積氧化物薄膜中氧元素的來(lái)源追蹤 110
6.5 3-YSZ、Ca3Co4O9脈沖激光沉積中的等離子體化學(xué)反應(yīng) 114
6.6 本章小結(jié) 120
參考文獻(xiàn) 120
第7章脈沖激光沉積（4）：N2O強(qiáng)氧化性氣體下的等離子體反應(yīng) 122
7.1 N2O背景氣體下脈沖激光誘導(dǎo)等離子體特性舉例 122
7.2 N2O背景氣體中等離子體化學(xué)反應(yīng)的普適性規(guī)律 125
7.3 N2O背景氣體中等離子體的離子動(dòng)能 128
7.4 N2O背景氣體下氧化物脈沖激光沉積薄膜中的氧元素追蹤 132
7.5 本章小結(jié) 134
參考文獻(xiàn) 134
第8章脈沖激光沉積（5）：脈沖氣體交叉反應(yīng)切削 136
8.1 脈沖氣體交叉反應(yīng)切削沉積技術(shù)簡(jiǎn)介 136
8.2 脈沖氣體交叉反應(yīng)沉積的等離子體綜合探測(cè)平臺(tái) 137
8.3 從等離子體角度討論脈沖氣體交叉反應(yīng)沉積的技術(shù)特點(diǎn) 137
8.4 本章小結(jié) 145
參考文獻(xiàn) 145
第9章總結(jié)與展望 147