光刻機(jī)像質(zhì)檢測(cè)技術(shù)（下冊(cè)）

目錄

(下冊(cè))

序言

前言

第7章 基于原位PMI的波像差檢測(cè) 1

7.1 Shack-Hartmann檢測(cè)技術(shù) 1

7.2 線衍射干涉檢測(cè)技術(shù) 4

7.3 Ronchi剪切干涉檢測(cè)技術(shù) 5

7.3.1 在光刻機(jī)中的應(yīng)用 5

7.3.2 干涉場(chǎng)的理論分析 6

7.3.3 相位提取技術(shù) 16

7.3.4 波前重建技術(shù) 28

7.3.5 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)參數(shù)設(shè)計(jì)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果 38

7.4 多通道Ronchi剪切干涉檢測(cè)技術(shù) 43

7.4.1 稀疏采樣法波前重建 44

7.4.2 多通道檢測(cè)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 53

參考文獻(xiàn) 54

第8章 偏振像差檢測(cè) 57

8.1 偏振像差對(duì)光刻成像質(zhì)量的影響 57

8.2 偏振像差表征方法 62

8.2.1 偏振態(tài)及其變換的表征方法 62

8.2.2 穆勒矩陣表征法 66

8.2.3 瓊斯矩陣表征法 69

8.2.4 三階瓊斯矩陣表征法 79

8.3 基于光刻膠曝光的檢測(cè)技術(shù) 83

8.3.1 SPIN-BLP技術(shù) 83

8.3.2 基于相移掩模的檢測(cè)技術(shù) 85

8.4 基于橢偏測(cè)量的檢測(cè)技術(shù) 87

8.4.1 穆勒光瞳檢測(cè)技術(shù) 87

8.4.2 瓊斯光瞳檢測(cè)技術(shù) 110

8.5 基于空間像測(cè)量的檢測(cè)技術(shù) 130

8.5.1 基于空間像位置偏移量的檢測(cè) 130

8.5.2 基于差分空間像主成分分析的檢測(cè) 154

參考文獻(xiàn) 171

第9章 極紫外光刻投影物鏡波像差檢測(cè) 174

9.1 基于干涉測(cè)量的檢測(cè)技術(shù) 174

9.1.1 點(diǎn)衍射干涉檢測(cè) 174

9.1.2 剪切干涉檢測(cè) 241

9.1.3 Fizeau干涉檢測(cè) 274

9.2 基于Hartmann波前傳感器的檢測(cè)技術(shù) 276

9.3 基于空間像測(cè)量的檢測(cè)技術(shù) 277

9.3.1 基于空間像匹配的檢測(cè)技術(shù) 277

9.3.2 基于波前局部曲率測(cè)量的檢測(cè)技術(shù) 278

9.4 基于Ptychography的檢測(cè)技術(shù) 279

9.4.1 基本原理 279

9.4.2 相位恢復(fù)算法 281

9.4.3 光場(chǎng)傳播公式 288

9.4.4 仿真與實(shí)驗(yàn) 292

9.5 基于光刻膠曝光的檢測(cè)技術(shù) 300

參考文獻(xiàn) 302

第10章 像質(zhì)檢測(cè)關(guān)鍵依托技術(shù) 311

10.1 工件臺(tái)位置參數(shù)檢測(cè)技術(shù) 311

10.1.1 工件臺(tái)基座表面形貌測(cè)量技術(shù) 311

10.1.2 承片臺(tái)不平度檢測(cè)技術(shù) 314

10.1.3 承片臺(tái)方鏡表面不平度檢測(cè)技術(shù) 316

10.1.4 工件臺(tái)水平坐標(biāo)系校正參數(shù)檢測(cè)技術(shù) 321

10.2 調(diào)焦調(diào)平傳感技術(shù) 326

10.2.1 狹縫投影位置傳感技術(shù) 326

10.2.2 光柵投影位置傳感技術(shù) 341

10.3 硅片對(duì)準(zhǔn)技術(shù) 353

10.3.1 自相干莫爾條紋對(duì)準(zhǔn)技術(shù) 353

10.3.2 基于標(biāo)記結(jié)構(gòu)優(yōu)化的對(duì)準(zhǔn)精度提升方法 360

10.3.3 基于多通道對(duì)準(zhǔn)信號(hào)的對(duì)準(zhǔn)誤差補(bǔ)償技術(shù) 373

10.4 照明參數(shù)檢測(cè)與控制技術(shù) 376

10.4.1 照明參數(shù)優(yōu)化 376

10.4.2 照明光瞳偏振參數(shù)檢測(cè)技術(shù) 383

10.4.3 照明均勻性控制技術(shù) 391

10.4.4 曝光劑量控制技術(shù) 394

10.5 光刻成像多參數(shù)優(yōu)化技術(shù) 398

10.5.1 光源優(yōu)化技術(shù) 398

10.5.2 掩模優(yōu)化技術(shù) 406

10.5.3 光源掩模聯(lián)合優(yōu)化技術(shù) 410

10.5.4 光源掩模投影物鏡聯(lián)合優(yōu)化技術(shù) 429

10.5.5 光刻機(jī)多參數(shù)聯(lián)合優(yōu)化技術(shù) 435

10.6 EUV光刻掩模衍射成像仿真技術(shù) 440

10.6.1 無(wú)缺陷掩模衍射場(chǎng)仿真技術(shù) 440

10.6.2 含缺陷掩模衍射場(chǎng)仿真技術(shù) 456

參考文獻(xiàn) 475

后記 479

(上冊(cè))

第1章 緒論

第2章 光刻成像模型

第3章 初級(jí)像質(zhì)參數(shù)檢測(cè)

第4章 基于光刻膠曝光的波像差檢測(cè)

第5章 基于空間像測(cè)量的波像差檢測(cè)

第6章 基于空間像主成分分析的波像差檢測(cè)