定 價(jià):¥68.00
作 者: | 熊禮威,王傳新 編著 |
出版社: | 化學(xué)工業(yè)出版社 |
叢編項(xiàng): | |
標(biāo) 簽: | 工業(yè)技術(shù) 礦業(yè)工程 |
ISBN: | 9787122309440 | 出版時(shí)間: | 2018-02-01 | 包裝: | 精裝 |
開(kāi)本: | 16開(kāi) | 頁(yè)數(shù): | 106 | 字?jǐn)?shù): |
第1章金剛石薄膜的性質(zhì)1
1.1金剛石的晶體結(jié)構(gòu)1
1.2金剛石的物理化學(xué)性能2
1.2.1金剛石的力學(xué)性能2
1.2.2金剛石的熱學(xué)性能3
1.2.3金剛石的光學(xué)性能3
1.2.4金剛石的電學(xué)性能3
1.2.5金剛石的聲學(xué)性能5
1.2.6金剛石的化學(xué)性能5
1.3金剛石薄膜的CVD制備方法5
1.3.1熱絲CVD法5
1.3.2微波等離子體CVD法6
1.3.3直流等離子體噴射CVD法6
1.3.4燃燒火焰CVD法7
1.4金剛石的應(yīng)用7
1.4.1金剛石在機(jī)械領(lǐng)域的應(yīng)用7
1.4.2金剛石在熱沉領(lǐng)域的應(yīng)用8
1.4.3金剛石在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用9
1.4.4金剛石在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用10
1.4.5金剛石在聲學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用12
1.4.6金剛石在其他領(lǐng)域的應(yīng)用13
參考文獻(xiàn)13
第2章金剛石薄膜的沉積原理16
2.1CVD法制備金剛石膜的原理16
2.1.1CVD金剛石膜的制備方法16
2.1.2CVD金剛石膜的生長(zhǎng)原理17
2.1.3CVD金剛石膜生長(zhǎng)過(guò)程中原子H的作用19
2.2熱絲CVD裝置及金剛石膜檢測(cè)方法20
2.2.1熱絲CVD裝置及其工作原理20
2.2.2金剛石膜的檢測(cè)方法21
2.3熱絲CVD法制備金剛石膜的前置條件23
2.3.1熱絲的選擇與處理23
2.3.2碳源的選擇與影響24
2.3.3基體材料的選擇25
2.4熱絲CVD法制備金剛石膜的形核26
2.4.1負(fù)偏壓增強(qiáng)形核26
2.4.2過(guò)渡層增強(qiáng)形核31
2.4.3基體表面預(yù)處理增強(qiáng)形核42
2.5熱絲CVD法制備金剛石膜的生長(zhǎng)及其影響因素45
2.5.1熱絲與基體之間的間距對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響45
2.5.2基體溫度對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響47
2.5.3反應(yīng)氣壓對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響50
2.5.4碳源濃度對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響51
2.5.5輔助氣體對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響53
2.5.6生長(zhǎng)過(guò)程中摻雜對(duì)金剛石膜生長(zhǎng)的影響58
參考文獻(xiàn)60
第3章化學(xué)氣相沉積金剛石等離子體診斷62
3.1氣相化學(xué)診斷方法62
3.1.1探針診斷法62
3.1.2波干涉診斷法63
3.1.3質(zhì)譜診斷法63
3.1.4光譜診斷法63
3.2Ar/H2/CH3COCH3生長(zhǎng)體系的氣相化學(xué)65
3.2.1Ar/H2/CH3COCH3生長(zhǎng)體系的典型發(fā)射光譜65
3.2.2氬氣含量對(duì)Ar/H2/CH3COCH3生長(zhǎng)體系氣相化學(xué)的影響67
3.2.3碳源濃度對(duì)Ar/H2/CH3COCH3生長(zhǎng)體系的影響70
3.2.4Ar/H2/CH4生長(zhǎng)體系的空間分布73
3.3Ar/H2/CH4生長(zhǎng)體系的氣相化學(xué)80
參考文獻(xiàn)81
第4章熱絲CVD法在刀具和硬質(zhì)合金鉆頭上制備金剛石膜83
4.1熱絲CVD法在刀具上制備金剛石膜83
4.1.1CVD金剛石膜刀具的研究現(xiàn)狀83
4.1.2三步酸蝕硬質(zhì)合金刀具基體的研究85
4.1.3含氧等離子體處理硬質(zhì)合金刀具基體的研究90
4.1.4熱絲CVD沉積工藝對(duì)金剛石膜性能的影響96
4.2熱絲CVD法在硬質(zhì)合金鉆頭上制備金剛石膜101
4.2.1硬質(zhì)合金微型鉆頭上沉積金剛石膜101
4.2.2硬質(zhì)合金普通鉆頭上沉積金剛石膜104
4.2.3電路板上鉆孔測(cè)試105
參考文獻(xiàn)106