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當(dāng)前位置: 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)無線電電子學(xué)、電信技術(shù)納米級場效應(yīng)晶體管建模與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究

納米級場效應(yīng)晶體管建模與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究

納米級場效應(yīng)晶體管建模與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究

定 價:¥68.00

作 者: 靳曉詩,劉溪 著
出版社: 清華大學(xué)出版社
叢編項:
標(biāo) 簽: 暫缺

ISBN: 9787302477792 出版時間: 2017-10-01 包裝: 平裝
開本: 16開 頁數(shù): 252 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  本書是對作者在納米級場效應(yīng)晶體管領(lǐng)域科研學(xué)術(shù)成果的系統(tǒng)性論述,具體內(nèi)容包括納米級場效應(yīng)晶體管寄生電容模型、傳統(tǒng)納米級金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管機(jī)理模型、新興無結(jié)型場效應(yīng)晶體管機(jī)理模型以及無結(jié)型場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)優(yōu)化。在建模的過程中,充分考慮了器件的具體結(jié)構(gòu)和摻雜濃度等參數(shù)對器件工作特性的影響,系統(tǒng)地建立了具有雙柵、圍柵等多柵結(jié)構(gòu)的納米級場效應(yīng)晶體管的機(jī)理模型體系,并給出了深納米級尺度下新興無結(jié)場效應(yīng)晶體管的優(yōu)化方案。 本書可供材料、電子、精密儀器等專業(yè)科研和工程技術(shù)人員參考使用。

作者簡介

暫缺《納米級場效應(yīng)晶體管建模與結(jié)構(gòu)優(yōu)化研究》作者簡介

圖書目錄

目 錄

第1章 緒論 1
1.1 CMOS超大規(guī)模集成電路技術(shù)發(fā)展與現(xiàn)狀分析 1
1.2 內(nèi)容概述 12
第2章 納米級MOSFETs的寄生電容模型 15
2.1 過往亞微米級寄生電容模型回顧 15
2.1.1 概述 15
2.1.2 幾種常見的寄生電容模型介紹 18
2.2 考慮源漏接觸電極影響的深亞微米寄生電容模型 27
2.2.1 概述 27
2.2.2 柵極側(cè)壁電容 (Cside) 28
2.2.3 柵極頂部電容與總寄生電容 36
2.3 基于精準(zhǔn)邊界條件的全解析寄生電容模型 41
2.3.1 概況 41
2.3.2 柵極側(cè)壁電容 42
2.3.3 柵極頂部電容與總寄生電容 47
第3章 納米級金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管模型 51
3.1 平面單柵極體硅金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管模型 51
3.1.1 能帶理論 51
3.1.2 一個平面金屬氧化物半導(dǎo)體電容器的標(biāo)準(zhǔn)模型 57
3.1.3 一個平面單柵極金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管器件的標(biāo)準(zhǔn)模型 62
3.2 長溝道未摻雜雙柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管漏源電流模型 64
3.2.1 概述 64
3.2.2 結(jié)構(gòu)與模型 65
3.2.3 模型驗證 69
3.3 長溝道摻雜雙柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管漏源電流模型 70
3.3.1 概述 70
3.3.2 結(jié)構(gòu)與模型 71
3.3.3 模型驗證 73

3.4 短溝道雙柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管亞閾值伏安特性模型 77
3.4.1 概述 77
3.4.2 結(jié)構(gòu)與模型 77
3.4.3 模型驗證 81
3.5 非對稱短溝道雙柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管建模 84
3.5.1 概述 84
3.5.2 結(jié)構(gòu)與模型 85
3.5.3 模型驗證 88
3.6 長溝道摻雜圍柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管模型 92
3.6.1 概述 92
3.6.2 結(jié)構(gòu)與模型 93
3.6.3 模型驗證 95
3.7 短溝道摻雜圍柵金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管模型 99
3.7.1 概述 99
3.7.2 結(jié)構(gòu)與模型 100
3.7.3 模型驗證 104
第4章 無結(jié)型場效應(yīng)晶體管建模研究 112
4.1 長溝道雙柵極無結(jié)晶體管模型 112
4.1.1 概述 112
4.1.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 112
4.1.3 電場與電勢分布模型 113
4.1.4 漏源電流模型 116
4.1.5 模型驗證 117
4.2 長溝道圍柵極無結(jié)晶體管模型 123
4.2.1 概述 123
4.2.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 124
4.2.3 電場與電勢分布模型 124
4.2.4 漏源電流模型 126
4.2.5 模型驗證 127
4.3 基于分離變量法的短溝道對稱雙柵無結(jié)晶體管亞閾值模型 131
4.3.1 概述 131
4.3.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 132
4.3.3 模型建立 132
4.3.4 模型驗證 135
4.4 基于拋物線法的短溝道對稱雙柵極無結(jié)晶體管緊湊亞閾值模型 141
4.4.1 概述 141
4.4.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 142
4.4.3 模型建立 142
4.4.4 模型驗證 145
4.5 基于分離變量法的短溝道非對稱雙柵無結(jié)型場效應(yīng)晶體管模型 151
4.5.1 概述 151
4.5.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 152
4.5.3 模型建立 153
4.5.4 模型驗證 155
4.6 基于拋物線法的短溝道圍柵無結(jié)晶體管緊湊亞閾值模型 163
4.6.1 概述 163
4.6.2 器件結(jié)構(gòu)和參數(shù)說明 164
4.6.3 模型建立 164
4.6.4 模型驗證 168
第5章 納米級無結(jié)場效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)優(yōu)化 180
5.1 溝道邊緣處柵極氧化物厚度優(yōu)化方案 180
5.1.1 雙柵無結(jié)場效應(yīng)晶體管優(yōu)化 180
5.1.2 立體柵無結(jié)場效應(yīng)晶體管優(yōu)化 192
5.2 不同介電常數(shù)柵極氧化物結(jié)合使用優(yōu)化方案 201
5.2.1 雙柵無結(jié)場效應(yīng)晶體管優(yōu)化 201
5.2.2 立體柵無結(jié)場效應(yīng)晶體管優(yōu)化 205
5.3 短溝道優(yōu)化——馬鞍型折疊柵無結(jié)場效應(yīng)晶體管 210
第6章 結(jié)論 220
附錄A 共形映射 224
A.1 坐標(biāo)系的變換 224
A.2 用復(fù)變函數(shù)法轉(zhuǎn)換 227
附錄B Schwarz-Christoffel映射 229
附錄C 泊松積分公式 231
參考文獻(xiàn) 233

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