脈沖激光沉積類金剛石膜技術(shù)

定　價：￥168.00

作　者：	程勇等著
出版社：	科學(xué)出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787030515513	出版時間：	2017-05-01	包裝：	精裝
開本：	16開	頁數(shù)：		字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　脈沖激光沉積技術(shù)是一種研究和開發(fā)新型高性能材料的有效途徑，在制備新型碳材料——類金剛石膜方面，以其獨有的特點，逐漸顯現(xiàn)出填補傳統(tǒng)技術(shù)空白的優(yōu)勢。但是，脈沖激光沉積技術(shù)制備的類金剛石膜也存在一些固有的缺陷，如內(nèi)應(yīng)力大、大面積不均勻等問題。如何采用脈沖激光沉積技術(shù)制備出具有工程應(yīng)用價值的類金剛石膜，一直是國內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域研究者的目標。程勇等編著的《脈沖激光沉積類金剛石膜技術(shù)》共7章內(nèi)容。從介紹類金剛石膜性質(zhì)、組成、制備及應(yīng)用入手，闡述脈沖激光沉積技術(shù)及其在制備類金剛石膜方面的機理和優(yōu)點、缺點，以及類金剛石膜的測試與表征；詳細討論激光參數(shù)、基底狀態(tài)、靶材種類以及環(huán)境氣氛等因素對類金剛石膜性能的影響，偏重于闡述摻雜、退火、膜層結(jié)構(gòu)及雙激光技術(shù)等類金剛石膜降低內(nèi)應(yīng)力、提高膜層各種性能的改性技術(shù)；針對類金剛石膜的工程應(yīng)用中存在的大面積不均勻、制備效率低的現(xiàn)實問題，展現(xiàn)多功能激光沉積系統(tǒng)，闡述脈沖激光沉積大尺寸均勻平面和球面類金剛石膜的裝置、模型及實驗；最后介紹脈沖激光沉積技術(shù)在制備其他功能薄膜方面的應(yīng)用，展望該技術(shù)未來發(fā)展趨勢和前景?！睹}沖激光沉積類金剛石膜技術(shù)》可供從事激光沉積技術(shù)和類金剛石膜相關(guān)的研究和應(yīng)用人員閱讀和參考，也可供高等院校光學(xué)、激光、材料、機械和電子等相關(guān)專業(yè)的學(xué)生參考。

作者簡介

　　程勇，江西玉山人，武漢軍械士官學(xué)校光電技術(shù)研究所所長、教授。1982年石家莊高級軍械學(xué)校畢業(yè)，2002年獲中國科學(xué)院安徽光學(xué)精密機械研究所光學(xué)專業(yè)博士學(xué)位，2004年中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)高級訪問學(xué)者，2007年赴英國皇家科學(xué)院訪問。中國固體激光工程和光電裝備保障專家，全軍專業(yè)技術(shù)重大貢獻獎及政府特殊津貼獲得者，被授予“全國優(yōu)秀科技工作者”榮譽稱號?，F(xiàn)任中國光學(xué)工程學(xué)會常務(wù)理事、中國光學(xué)學(xué)會光電專業(yè)委員會常委，《紅外與激光工程》《激光與光電子學(xué)進展》等雜志編委?！≈饕獜氖鹿腆w激光工程與器件、光電裝備保障和新慨念激光技術(shù)等領(lǐng)域的研究，“免調(diào)試固體激光”“互注入相干合成”“激光沉積光學(xué)窗口類金剛石膜”“雙波長自由切換激光器”“OPO人眼安全激光器”等研究成果得到了學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的充分肯定，在裝備中得到廣泛應(yīng)用。獲國家技術(shù)發(fā)明二等獎1項、軍隊科技進步一等獎3項、軍隊科技進步二等獎4項，編寫《免凋試固體激光器》等專著3部，發(fā)表學(xué)術(shù)論文100余篇，獲得授權(quán)專利24項，榮立二等功2次。

圖書目錄

序
前言
第1章類金剛石薄膜概述
1．1 類金剛石膜的定義及性能
1．1．1 類金剛石膜的定義
1．1．2 類金剛石膜的性能
1．2 類金剛石膜的制備方法
1．2．1 物理氣相沉積方法
1．2．2 化學(xué)氣相沉積方法
1．2．3 液相沉積方法
1．3 類金剛石膜的應(yīng)用
1．3．1 光學(xué)應(yīng)用
1．3．2 機械應(yīng)用
1．3．3 電學(xué)應(yīng)用
1．3．4 醫(yī)學(xué)應(yīng)用
1．3．5 其他應(yīng)用
1．4 類金剛石膜研究難題及其改進技術(shù)
1．4．1 類金剛石膜研究中存在的難題
1．4．2 常見類金剛石膜改性技術(shù)
1．4．3 類金剛石膜研究展望
參考文獻
第2章激光沉積法制備類金剛石膜的機理
2．1 激光沉積法的原理
2．2 激光沉積類金剛石膜及類石墨膜的理論模型
2．2．1 “淺注入（亞種植）”生長模型
2．2．2 “能量淬滅”生長模型
2．2．3 “熱峰”生長模型
2．2．4 “離子刻蝕”生長模型
2．3 激光沉積薄膜的誘導(dǎo)等離子體
2．3．1 激光等離子體的形成與擴展
2．3．2 激光等離子體膨脹的動力學(xué)
2．3 -3 等離子體的空間分布和飛行時間
2．3．4 等離子體的光譜特性
2．3．5 輔助氣體對激光誘導(dǎo)等離子體的影響
2．4 激光沉積法制備類金剛石膜的優(yōu)缺點
2．4．1 激光沉積法制備類金剛石膜的優(yōu)點
2．4．2 PLD法制備類金剛石膜的主要缺點及改進措施
參考文獻
第3章類金剛石膜的性能測試與表征
3．1 傅里葉紅外光譜
3．2 拉曼光譜
3．3 納米硬度
3．4 X射線光電子能譜
3．5 橢偏光譜
3．6 表面形貌
3．6．1 掃描電子顯微鏡
3．6．2 原子力顯微鏡
3．7 摩擦磨損
3．8 薄膜應(yīng)力
3．8．1 基片變形法
3．8．2 X射線衍射法
3．8．3 拉曼光譜法
3．9 膜基附著強度
3．9．1 納米劃痕法
3．9．2 納米壓痕法
3．9．3 刮剝法
3．9．4 拉伸法
3．9．5 抗剪切強度檢測法
3．10 環(huán)境試驗
3．10．1 牢固度試驗
3．10．2 溫度試驗
3．10．3 侵蝕試驗
3．10．4 其他試驗
參考文獻
第4章激光沉積法制備類金剛石膜的影響因素
4．1 激光參數(shù)
4．1．1 激光波長
4．1．2 激光脈寬
4．1．3 激光功率密度
4．1．4 其他參數(shù)
4．2 靶材性質(zhì)
4．2．1 常規(guī)固體靶材
4．2．2 其他種類靶材
4．3 氣氛環(huán)境
4．3．1 氫氣氛環(huán)境
4．3．2 氮氣氛環(huán)境
4．3．3 氧氣氛環(huán)境
4．3．4 惰性氣體環(huán)境
4．4 基底狀態(tài)
4．4．1 基底偏壓
4．4．2 基底溫度
4．4．3 基底傾斜
4．4．4 基底預(yù)處理
參考文獻
第5章激光沉積法制備類金剛石膜的性能改進技術(shù)
5．1 元素摻雜
5．1．1 金屬摻雜DLC膜
5．1．2 非金屬摻雜DLC膜
5．1．3 化合物摻雜DLC膜
5．2 退火后處理
5．2．1 高溫熱退火
5．2．2 激光退火
5．3 結(jié)構(gòu)設(shè)計
5．3．1 周期性結(jié)構(gòu)膜層
5．3．2 緩沖過渡層
5．3．3 基底預(yù)處理
5．4 雙激光沉積技術(shù)
5．4．1 雙激光沉積雙層膜
5．4．2 雙激光沉積摻雜膜
5．5 同步雙脈沖沉積技術(shù)
5．5．1 雙脈沖同步延時沉積
5．5．2 激光輻照等離子體沉積
參考文獻
第6章脈沖激光沉積類金剛石膜工程化研究
6．1 PLD系統(tǒng)的工程化應(yīng)用
6．1．1 多功能設(shè)計
6．1．2 產(chǎn)業(yè)化設(shè)計
6．2 大尺寸基底均勻鍍膜
6．2．1 大尺寸平面
6．2．2 大尺寸球面
6．3 硫化鋅窗口DLC增透保護膜
6．3．1 研究目標及方案設(shè)計
6．3．2 復(fù)合膜系（過渡層）設(shè)計
6．3．3 梯度摻雜DLC保護膜設(shè)計
6．3．4 硫化鋅樣品的綜合性能
參考文獻
第7章脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用及展望
7．1 脈沖激光沉積技術(shù)制備功能薄膜
7．1．1 透明導(dǎo)電氧化物薄膜
7．1．2 高溫超導(dǎo)薄膜
7．1．3 鐵性薄膜
7．1．4 金屬薄膜
7．1．5 電化學(xué)薄膜
7．1．6 摩擦力學(xué)薄膜
7．1．7 光波導(dǎo)薄膜
7．1．8 其他功能薄膜
7．1．9 小結(jié)
7．2 脈沖激光沉積技術(shù)展望
7．2．1 超短脈沖與高重頻激光
7．2．2 雙／多激光沉積技術(shù)
7．2．3 結(jié)合其他沉積技術(shù)
7．3 激光等離子-原子層沉積系統(tǒng)
參考文獻