化工模擬 Aspen教程

定　價：￥39.00

作　者：	賴奇，楊海燕編
出版社：	北京理工大學出版社
叢編項：
標　簽：	暫缺

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ISBN：	9787568233804	出版時間：	2017-01-01	包裝：	平裝
開本：	16開	頁數(shù)：	164	字數(shù)：

內(nèi)容簡介

　　《化工模擬 Aspen教程》詳細介紹了Aspen Plus軟件的界面、物性方法的選擇及物性估算、簡單單元的模擬、流體輸送單元的模擬、傳熱單元的模擬、分離單元模擬、反應器單元模擬、工藝流程實例的模擬等主要單元?！痘つM Aspen教程》的所有實例均以Aspen Plus 7.3版本為例，不同版本的Aspen Plus在界面和內(nèi)容上有所不同。讀者在閱讀《化工模擬 Aspen教程》及使用Aspen Plus軟件前，注意把化工原理、物理化學、化工熱力學、化學反應工程、化工分離工程、化工設計等專業(yè)知識與軟件中的一些數(shù)據(jù)處理方法相結(jié)合，才能正確使用軟件得出正確的結(jié)果。因此，在使用軟件過程中對物性方法的選擇、熱力學方程等的選擇及結(jié)果是否正確的判斷才是使用Aspen Plus的難點所在?！痘つM Aspen教程》可作為學習Aspen Plus的入門教材，也可作為高校本科生培養(yǎng)計劃的學生的教材，也可作為選修教材。

作者簡介

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圖書目錄

第1章 Aspen Plus流程模擬技術(shù)
1．1 流程模擬軟件簡介
1．2 Aspen Plus用戶界面
1．2．1 數(shù)據(jù)瀏覽器
1．2．2 Next按鈕
1．2．3 Aspen Plus幫助系統(tǒng)的調(diào)用
1．2．4 Aspen Plus常用快捷鍵
1．3 流程模擬
1．3．1 建立工藝流程圖
1．3．2 變量的設置
1．4 模擬程序的運行
第2章物性方法
2．1 Aspen Plus數(shù)據(jù)庫
2．2 Aspen Plus中的主要物性模型
2．3 物性方法的選擇
2．3．1 根據(jù)經(jīng)驗選擇
2．3．2 推薦使用的物性方法
2．4 定義物性集
2．5 物性分析
2．6 物性估算
2．7 物性數(shù)據(jù)回歸
2．8 電解質(zhì)組分
第3章簡單單元模擬
3．1 混合器／分流器
3．1．1 混合器Mixer
3．1．2 流量分配器FSplit
3．2 兩種簡單控制器
3．2．1 乘法器Muh
3．2．2 復制器Dupl
3．3 簡單分離器
3．3．1 兩相閃蒸器Flash2
3．3．2 三相閃蒸器Flash3
3．3．3 液一液傾析器Decanter
3．3．4 組分分離器Sep
3．3．5 兩出口組分分離器Sep2
第4章流體輸送單元模擬
4．1 概述
4．2 泵Pump
4．2．1 Pump模型參數(shù)
4．3 壓縮機Compr
4．3．1 Compr模塊計算模型
4．3．2 Compr特性曲線
4．4 多級壓縮機MCompr
4．4．1 MCompr模型參數(shù)
4．4．2 MCompr特性曲線
4．5 閥門Valve
4．5．1 Valve模型操作條件設置
4．5．2 Valve模型參數(shù)
4．5．3 Valve模型計算選項
4．6 管段Pipe
4．6．1 Pipe管段參數(shù)
4．6．2 Pipe熱參數(shù)設定
4．6．3 Pipe管件參數(shù)
4．7 管線Pipeline
第5章傳熱單元模擬
5．1 概述
5．2 加熱器Heater
5．2．1 Heater模型參數(shù)
5．2．2 Heater模型物性計算
5．3 換熱器HeatX
5．3．1 HeatX模型設定
5．3．2 HeatX LMTD校正
5．3．3 HeatX簡捷計算
5．3．4 HeatX詳細計算
5．3．5 HeatX幾何結(jié)構(gòu)
第6章分離單元模擬
6．1 概述
6．2 精餾塔的簡捷設計模塊DSTWU
6．2．1 DSTWU模型參數(shù)
6．2．2 DSTWu計算選項
6．3 簡捷精餾操作模塊Distl
6．3．1 Distl模型參數(shù)
6．3．2 Distl模型計算結(jié)果
6．4 嚴格法精餾模塊RadFrac：
6．4．1 RadFrac模型配置
6．4．2 RadFrac流股
6．4．3 RadFrac壓強
6．4．4 RadFrac冷凝器
6．4．5 RadFrac再沸器
6．5 塔板和填料的設計與校核
6．5．1 RadFrac塔板設計
6．5．2 RadFrac塔板核算
6．5．3 RadFrac填料設計
6．5．4 RadFrac填料核算
6．6 吸收示例
第7章反應器單元模擬
7．1 概述
7．2 化學計量反應器RStoic
7．2．1 RStoic模型設定
7．2．2 RStoic化學反應
7．2．3 RStoic反應熱
7．2．4 RStoic選擇性
7．3 產(chǎn)率反應器RYield
7．3．1 RYield模型設定
7．3．2 RYield產(chǎn)率
7．3．3 RYield組分映射
7．4 平衡反應器REquil
7．4．1 REquil模型設定
7．4．2 REquil化學反應
7．5 吉布斯反應器：RGibbs
7．5．1 RGibbs模型設定
7．5．2 RGibbs產(chǎn)物
7．5．3 RGibbs指定物流
7．5．4 RGibbs惰性物
7．5．5 RGibbs限制平衡
7．6 化學反應對象Reactions
7．6．1 Reactions對象類型
7．6．2 Reactions反應設定
7．6．3 Reactions動力學參數(shù)
7．7 全混釜反應器RCSTR
7．7．1．RCSTR模型參數(shù)
7．7．2 RCSTR設置出口物流
7．7．3 RCSTR選擇反應
7．8 平推流反應器RPlug
7．8．1 RPlug模型設定
7．8．2 RPlug反應器構(gòu)型
7．8．3 RPlug壓強
7．9 間歇反應器RBatch
7．9．1 RBatch模型設定
7．9．2 RBatch停止判據(jù)
7．9．3 RBatch操作時間
第8章工藝流程實例模擬
8．1 簡單工藝流程模擬
8．2 收斂循環(huán)工藝流程
8．3 2．7萬t甲基丙烯酸甲酯工藝模擬
8．3．1 工藝模擬描述
8．3．2 分段模擬
參考文獻