日本專利申請指南

前言
第一部分 日本專利制度概覽
第1章 日本專利制度的歷史與現(xiàn)狀
1.1 日本的專利法律的歷史
1.2 現(xiàn)行專利制度體系
第2章 程序上的通則
2.1 權(quán)利能力、程序能力、代理人等
2.2 期間、救濟
2.3 新穎性喪失例外
2.4 手續(xù)、處分等
2.5 費用

第二部分 專利和實用新型
第1章 申請文件的準備
1.1 應(yīng)當提交的申請文件
1.2 確定請求保護的主題
1.3 權(quán)利要求的布局
1.4 說明書及附圖
1.5 權(quán)利要求書
第2章 申請和審查
2.1 專利申請的流程
2.2 加快審查
2.3 外文文件申請制度
2.4 分案申請
2.5 變更申請
2.6 PCT申請
第3章 實質(zhì)審查程序
3.1 概覽
3.2 單一性和審查對象的選擇
3.3 駁回理由通知
3.4 提交意見書、補正書
第4章 專利要件
4.1 “發(fā)明”的定義與產(chǎn)業(yè)可利用性
4.2 不得被授予專利的發(fā)明
4.3 發(fā)明的認定
4.4 新穎性
4.5 創(chuàng)造性
4.6 抵觸申請
4.7 重復授權(quán)
第5章 特殊領(lǐng)域的發(fā)明
5.1 計算機軟件及商業(yè)方法相關(guān)發(fā)明
第6章 申請文件的補正
6.1 補正概論
6.2 說明書、權(quán)利要求書、附圖的補正
6.3 具體判斷
6.4 小結(jié)與建議
7.1 程序
7.3 審理
7.4 審決
7.5 小結(jié)與建議
第8章 授權(quán)后程序
8.1 存續(xù)期間延長制度
8.2 訂正審判和訂正請求
8.3 無效審判
8.4 判定
第9章 實用新型注冊申請
9.1 概況
9.2 申請的流程
9.3 實用新型注冊和實用新型權(quán)
9.4 實用新型技術(shù)評價
9.5 訂正
9.6 無效審判

第三部分 外觀設(shè)計
第1章 概覽
第2章 外觀設(shè)計的保護客體和保護形式
2.1 “外觀設(shè)計”的定義和工業(yè)可利用性
2.2 部分外觀設(shè)計
2.3 電子圖像外觀設(shè)計
2.4 關(guān)聯(lián)外觀設(shè)計
2.5 成套物品的外觀設(shè)計
2.6 動態(tài)外觀設(shè)計
第3章 外觀設(shè)計的授權(quán)要件
3.1 新穎性
3.2 創(chuàng)作性
3.3 在先申請的一部分
3.4 重復授權(quán)
3.5 不得準許外觀設(shè)計注冊的情況
第4章 申請、審查、審判
4.1 申請
4.2 審查
4.3 審判
第5章 外觀設(shè)計權(quán)
5.1 外觀設(shè)計權(quán)的產(chǎn)生、效力
5.2 外觀設(shè)計權(quán)的范圍
5.3 外觀設(shè)計的沖突、利用

第四部分 日本專利制度及申請策略簡述
第1章 與申請有關(guān)的實用信息
1.1 專利文獻檢索
1.2 審查過程文件、審判決定查詢
1.3 J-PlatPat檢索平臺
第2章 日本有而中國沒有的制度
2.1 外文申請
2.2 申請的變更
2.3 訂正審判
2.4 專利權(quán)存續(xù)期限的延長
2.5 臨時許可
2.6 多種法定實施權(quán)
2.7 實用新型權(quán)人“無過失賠償責任”
2.8 外觀設(shè)計專利保護期限及方式
2.9 外觀設(shè)計申請的實質(zhì)審查
2.10 外觀設(shè)計申請的補正拒回后再申請制度
第3章 專利和實用新型申請
3.1 申請的方式
3.2 權(quán)利要求書的準備
3.3 加快審查的方式
3.4 答復駁回理由通知
第4章 專利權(quán)和專利權(quán)的行使
4.1 專利權(quán)的范圍
4.2 間接侵權(quán)
4.3 專利權(quán)的行使
附錄 2014年法律修訂要點
參考文獻