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實用等離子體發(fā)射光譜分析技術

實用等離子體發(fā)射光譜分析技術

定 價:¥45.00

作 者: 周西林 等編
出版社: 國防工業(yè)出版社
叢編項:
標 簽: 分析化學

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ISBN: 9787118080995 出版時間: 2012-05-01 包裝: 平裝
開本: 16開 頁數(shù): 259 字數(shù):  

內容簡介

  《實用等離子體發(fā)射光譜分析技術》涵蓋了等離子體發(fā)射光譜分析基礎知識和現(xiàn)代分析儀器檢測技術,介紹了相關基礎知識(不確定度、標準物質、數(shù)據處理等)、儀器安裝及維護保養(yǎng)、等離子體發(fā)射光譜分析基本原理、等離子體發(fā)射光譜儀器結構單元及特性(氣路系統(tǒng)、RF發(fā)生器系統(tǒng)、光源系統(tǒng)、進樣系統(tǒng)、分光系統(tǒng)、檢測系統(tǒng))、前處理、儀器操作經驗與故障排除技術、黑色金屬應用、有色金屬應用、礦物及硅酸鹽應用試料、有機物進樣技術的應用和其他方面應用等。本書可供學習化學分析專業(yè)知識的學生,化學檢測分析學員,初級、中級、高級工業(yè)化學分析工以及工廠化驗室崗位培訓教師,理化檢測中心、科研單位和大專院校等有關科技人員使用及參閱。

作者簡介

暫缺《實用等離子體發(fā)射光譜分析技術》作者簡介

圖書目錄

第1章 基礎知識
1.1 不確定度
1.2 標準物質
1.3 檢測標準
1.4 分析方法的評價
第2章 儀器安裝及維護保養(yǎng)
2.1 儀器安裝基本條件
2.2 儀器的維護保養(yǎng)
2.3 開機前后注意事項
第3章 光譜分析基本原理
3.1 等離子體發(fā)射光譜分析原理
3.2 定性和定量分析方法
3.3 工作參數(shù)
3.4 靈敏度、檢出限、精密度和背景等效濃度
3.5 干擾效應與校正
3.6 ICP應用范圍及其發(fā)展前景
第4章 儀器結構單元及特性
4.1 氣路系統(tǒng)及其附屬設施
4.2 ICP光源系統(tǒng)
4.3 進樣系統(tǒng)
4.4 分光系統(tǒng)
4.5 檢測系統(tǒng)
第5章 試料前處理
5.1 制樣
5.2 試料處理前的工作
5.3 試料溶解
5.4 分離和富集
5.5 微波消解法
5.6 固體試料引入法
5.7 氫化物發(fā)生引入法
第6章 儀器操作經驗與故障排除技術
6.1 前處理和輔機設備
6.2 點火故障
6.3 譜線強度值的升降
6.4 數(shù)據精密度差
6.5 進樣系統(tǒng)
6.6 炬管故障問題
6.7 儀器開關“跳閘”
6.8 光譜譜線問題
6.9 標準曲線校正失敗
第7章 黑色金屬中的應用
7.1 鋼鐵及其合金的分析
7.2 生鐵及其鑄鐵的分析
7.3 鐵合金的分析
7.4 鐵基粉末冶金的分析
7.5 黑色金屬純物質及其氧化物的分析
7.6 黑色金屬中微量、痕量元素的分析
第8章 有色金屬中的應用
8.1 鋁及鋁合金分析
8.2 銅合金分析
8.3 鋅合金分析
8.4 鎂合金分析
8.5 鎳合金分析
8.6 鋯合金分析
8.7 鎢合金分析
8.8 鈦及鈦合金分析
8.9 貴金屬分析
8.10 有色金屬及催化劑的分析
8.11 純金屬及其氧化物分析
第9章 礦物和硅酸鹽類中的應用
第10章 有機物進樣技術中的應用
第11章 其他方面中的應用
附錄 ICP-AES常用譜線、檢出限及干擾元素
參考文獻

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