光場中的原子分子及激光技術(shù)

　　《光場中的原子分子及激光技術(shù)》由汪正民所著，系統(tǒng)論述了原子多光子電離的相關(guān)理論基礎(chǔ)和研究方法，詳細(xì)討論了用光電子成像裝置測量光電子角分布來研究原子光電離的特征，重點(diǎn)講述了如何在實(shí)驗(yàn)上獲得電子云影像并由此確定原子光離化參數(shù)以及研究奇偶宇稱躍遷過程的量子干涉。本書還以相當(dāng)?shù)钠榻B了原子激光光譜和分子紅外多光子離解研究的某些專題，詳細(xì)討論了無多普勒展寬高分辨激光光譜學(xué)的基本原理與研究方法。光學(xué)與激光技術(shù)方面的內(nèi)容包括激光測距、風(fēng)洞流場全息干涉測量以及法布里一珀羅干涉儀（標(biāo)準(zhǔn)具）在光波長與光譜線寬測量、激光縱模選擇等方面的原理及應(yīng)用。最后一章介紹在光學(xué)層析成像領(lǐng)域的最新研究成果。并詳細(xì)闡述了基于激光二維掃描系統(tǒng)和ccD照相機(jī)的非接觸光學(xué)層析成像實(shí)驗(yàn)裝置及其在光學(xué)漫射層析成像和光學(xué)熒光層析成像中的應(yīng)用。《光場中的原子分子及激光技術(shù)》讀者范圍包括從事原子分子物理、激光光學(xué)、光物理、光化學(xué)和光學(xué)層析成像研究的廣大科技工作者，以及相關(guān)專業(yè)的大學(xué)教師、研究生與大學(xué)生。

　　汪正民，美國普渡大學(xué)物理學(xué)哲學(xué)博士.主要在以下大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)學(xué)習(xí)、從事教學(xué)與研究工作：南京大學(xué)、中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)、中國科學(xué)院安徽光學(xué)精密機(jī)械研究所、美國埃姆斯國家實(shí)驗(yàn)室（Ames Laboratory）、普渡大學(xué)（Purdue University）、賓夕法尼亞大學(xué)（University of Pennsylvania）。