光場(chǎng)中的原子分子及激光技術(shù)

　　《光場(chǎng)中的原子分子及激光技術(shù)》由汪正民所著，系統(tǒng)論述了原子多光子電離的相關(guān)理論基礎(chǔ)和研究方法，詳細(xì)討論了用光電子成像裝置測(cè)量光電子角分布來(lái)研究原子光電離的特征，重點(diǎn)講述了如何在實(shí)驗(yàn)上獲得電子云影像并由此確定原子光離化參數(shù)以及研究奇偶宇稱躍遷過(guò)程的量子干涉。本書(shū)還以相當(dāng)?shù)钠榻B了原子激光光譜和分子紅外多光子離解研究的某些專題，詳細(xì)討論了無(wú)多普勒展寬高分辨激光光譜學(xué)的基本原理與研究方法。光學(xué)與激光技術(shù)方面的內(nèi)容包括激光測(cè)距、風(fēng)洞流場(chǎng)全息干涉測(cè)量以及法布里一珀羅干涉儀（標(biāo)準(zhǔn)具）在光波長(zhǎng)與光譜線寬測(cè)量、激光縱模選擇等方面的原理及應(yīng)用。最后一章介紹在光學(xué)層析成像領(lǐng)域的最新研究成果。并詳細(xì)闡述了基于激光二維掃描系統(tǒng)和ccD照相機(jī)的非接觸光學(xué)層析成像實(shí)驗(yàn)裝置及其在光學(xué)漫射層析成像和光學(xué)熒光層析成像中的應(yīng)用?！豆鈭?chǎng)中的原子分子及激光技術(shù)》讀者范圍包括從事原子分子物理、激光光學(xué)、光物理、光化學(xué)和光學(xué)層析成像研究的廣大科技工作者，以及相關(guān)專業(yè)的大學(xué)教師、研究生與大學(xué)生。

　　汪正民，美國(guó)普渡大學(xué)物理學(xué)哲學(xué)博士.主要在以下大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)學(xué)習(xí)、從事教學(xué)與研究工作：南京大學(xué)、中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)、中國(guó)科學(xué)院安徽光學(xué)精密機(jī)械研究所、美國(guó)埃姆斯國(guó)家實(shí)驗(yàn)室（Ames Laboratory）、普渡大學(xué)（Purdue University）、賓夕法尼亞大學(xué)（University of Pennsylvania）。