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當(dāng)前位置: 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)金屬學(xué)、金屬工藝先進(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用

先進(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用

先進(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用

定 價:¥23.00

作 者: 周香林,張濟(jì)山,巫湘坤 編著
出版社: 機(jī)械工業(yè)出版社
叢編項(xiàng):
標(biāo) 簽: 金屬學(xué)與金屬工藝

ISBN: 9787111327769 出版時間: 2011-04-01 包裝: 平裝
開本: 32開 頁數(shù): 250 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  《先進(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用》根據(jù)作者的科研經(jīng)歷與科研成果,結(jié)合近幾年國內(nèi)外學(xué)者的最新研究成果,專業(yè)性地闡述了一種涂層制備和材料制造新工藝——冷噴涂技術(shù)。第1章介紹了冷噴涂技術(shù)的產(chǎn)生、發(fā)展與特點(diǎn);第2章 詳細(xì)敘述了冷噴涂設(shè)備的各個組成部分以及設(shè)備優(yōu)化設(shè)計(jì)的新成果;第3章闡述了氣固兩相流工藝過程原理,分析了固體顆粒加速效果的 影響因素;第4章介紹了顆粒碰撞數(shù)值模擬原理與結(jié)果以及冷噴涂層實(shí)驗(yàn)結(jié)果,討論了涂層的沉積特性與結(jié)合機(jī)理;第5章介紹了目前主要開展的涂層材料研究與開發(fā);第6章展望了冷噴涂技術(shù)的應(yīng)用前景?!断冗M(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用》可作為材料科學(xué)與工程學(xué)科表面工程領(lǐng)域本科生和研究生的教學(xué)參考書,也可以供從事材料表面工程與材料制備技術(shù)方面的科研人員參考。

作者簡介

暫缺《先進(jìn)冷噴涂技術(shù)與應(yīng)用》作者簡介

圖書目錄

前言
第1章  緒論
  1.1  噴涂技術(shù)簡述
  1.2  冷噴涂技術(shù)的概念及特點(diǎn)
  1.3  冷噴涂技術(shù)的產(chǎn)生及發(fā)展
  1.4  冷噴涂技術(shù)的現(xiàn)狀及應(yīng)用前景
  參考文獻(xiàn)
第2章  冷噴涂設(shè)備
  2.1  設(shè)備組成與結(jié)構(gòu)
  2.2  噴槍
    2.2.1  噴槍內(nèi)管形狀設(shè)計(jì)
    2.2.2  噴槍內(nèi)管尺寸設(shè)計(jì)
    2.2.3  噴槍系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
    2.2.4  噴槍的改進(jìn)與優(yōu)化
  2.3  送粉器
    2.3.1  幾種常用送粉器
    2.3.2  ?冷噴涂系統(tǒng)送粉器的要求
    2.3.3  一種高壓送粉器的設(shè)計(jì)
    2.3.4  其他冷噴涂用送粉器
  2.4  氣體加熱裝置
  2.5  高壓氣源
    2.5.1  工作氣體的選擇
    2.5.2  氦、氮混合氣體的使用
    2.5.3  高壓氣源的種類
    2.5.4  氣體循環(huán)裝置
  2.6  其他部件
    2.6.1  持槍機(jī)械手及載物?作臺
    2.6.2  顆粒測速儀
    2.6.3  噴涂室設(shè)置
  2.7  系統(tǒng)種類與特點(diǎn)
    2.7.1  實(shí)驗(yàn)室冷噴涂裝置
    2.7.2  高壓固定式與低壓便攜式冷噴涂系統(tǒng)
    2.7.3  真空冷噴涂系統(tǒng)
    2.7.4  脈沖氣體冷噴涂技術(shù)
    2.7.5  激光輔助冷噴涂技術(shù)
    2.7.6  激波風(fēng)洞冷噴涂技術(shù)
  參考文?
第3章  氣流與顆粒加速
  3.1  氣流模型
  3.2  典型氣體的加速效果
    3.2.1  計(jì)算模型
    3.2.2  氮和氦混合氣體加速過程
    3.2.3  He含量對氣體及顆粒速度的影響
    3.2.4  He含量對氣體及顆粒溫度的影響
    3.2.5  氣體流量分析
  3.3  影響顆粒撞擊速度的因素
    3.3.1  氣體性質(zhì)
    3.3.2  噴管結(jié)構(gòu)
    3.3.3  噴涂距離
    3.3.4  送粉速率
    3.3.5  顆粒特性
    3.3.6  噴涂角度
  參考文獻(xiàn)
第4章  涂層形成機(jī)理
  4.1  冷噴涂顆粒的沉積過程
  4.2  涂層結(jié)合機(jī)制
  4.3  臨界沉積速度及影響因素
  4.4  沖蝕速度與噴涂工藝帶
  4.5  高速碰撞問題的理論基礎(chǔ)
    4.5.1  材料狀態(tài)方程
    4.5.2  材料本構(gòu)方程
  4.6  有限元模擬結(jié)果與討論
    4.6.1  單顆粒撞擊行為模擬研究
    4.6.2  多顆粒碰撞基板的數(shù)值模擬
    4.6.3  反彈現(xiàn)象及相關(guān)研究
    4.6.4  冷噴涂過程中的能量變化研究
  4.7  顆粒沉積及涂層生長的分子動力學(xué)模擬
  4.8  冷噴涂層界面特征的實(shí)驗(yàn)研究
    4.8.1  界面熔化與中間相形成
    4.8.2  射流與表層破碎
    4.8.3  動態(tài)再結(jié)晶與非晶化
    4.8.4  界面材料混合
    4.8.5  顆粒夯實(shí)作用
  參考文獻(xiàn)
第5章  涂層及基體材料
  5.1  涂層材料
    5.1.1  金屬涂層材料
    5.1.2  非金屬涂層材料
    5.1.3  復(fù)合涂層材料
    5.1.4  新型涂層材料
  5.2  基體材料
    5.2.1  金屬基體材料
    5.2.2  非金屬基體材料
    5.2.3  非金屬表面冷噴涂金屬化技術(shù)探討
  參考文獻(xiàn)
第6章  冷噴涂技術(shù)的應(yīng)用
  6.1  防腐涂層
  6.2  耐高溫涂層
  6.3  耐磨涂層
  6.4  導(dǎo)電及導(dǎo)熱涂層
  6.5  抗菌涂層及光催化涂層
  6.6  生物醫(yī)用涂層
  6.7  噴涂成形
  6.8  表面修復(fù)
  參考文獻(xiàn)

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