電容成像技術(shù)及其應(yīng)用

前言
第1章 緒論
1．1 過程參數(shù)檢測的意義
1．2 過程成像技術(shù)的發(fā)展歷史
1．3 過程成像技術(shù)的特點(diǎn)及分類
1．4 電容層析成像的研究熱點(diǎn)與存在的問題及展望
1．5 本書的主要內(nèi)容
第2章 電容層析成像技術(shù)
2．1 拉冬(Radon)變換和拉冬逆變換的基本原理
2．2 電容層析成像系統(tǒng)構(gòu)成
2．3 電容傳感器的結(jié)構(gòu)
2．4 電容測量電路
2．5 電容層析成像正問題
2．6 電容層析成像逆問題
2．7 本章小結(jié)
第3章 多相流流型的電容層析成像圖像重建算法
3．1 Tikhonov圖像重建算法比較
3．2 圖像重建算法比較與評價
3．3 基于模糊閾值分割的ECT圖像重建方法
3．4 本章小結(jié)
第4章 電容層析成像傳感器結(jié)構(gòu)設(shè)計
4．1 電容層析成像傳感器優(yōu)化設(shè)計
4．2 小尺度電容層析成像傳感器結(jié)構(gòu)分析
4．3 本章小結(jié)
第5章 電容層析成像系統(tǒng)特殊標(biāo)定方法研究與應(yīng)用
5．1 內(nèi)置電極標(biāo)定法在代用炸藥壓制成型工藝中的應(yīng)用
5．2 通道型多孔介質(zhì)火焰測量中的標(biāo)定方法研究
5．3 本章小結(jié)
第6章 結(jié)論與展望
6．1 結(jié)論
6．2 展望
參考文獻(xiàn)