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交互式計算機圖形學(xué):基于OpenGL的自頂向下方法(第4版)

交互式計算機圖形學(xué):基于OpenGL的自頂向下方法(第4版)

定 價:¥79.99

作 者: (美)安吉爾 著,吳文國 譯
出版社: 清華大學(xué)出版社
叢編項: 國外經(jīng)典教材·計算機科學(xué)與技術(shù)
標(biāo) 簽: 多媒體

ISBN: 9787302152651 出版時間: 2007-08-01 包裝: 平裝
開本: 16 頁數(shù): 685 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  本書是第三版,它的前二版曾被廣泛選用作為圖形學(xué)教材。由OpenGL是行業(yè)中使用最為廣泛的3D圖形工具包(API),所以本書一開始就讓初學(xué)者掌握利用OpenGL建立交互式圖形應(yīng)用程序的技術(shù),并為今后在計算機圖形學(xué)方而的進一步工作提供了一個堅實的基礎(chǔ)。本書包含圖形學(xué)基礎(chǔ)課程所要求的各方面知識,如光與材質(zhì)的相互作用、明暗處理、建模技術(shù)、曲線和曲面、反走樣技術(shù)、紋理映射以及圖像合成技術(shù)等,此外本書還討論了網(wǎng)形學(xué)中的一些硬件技術(shù)??紤]到圖形學(xué)領(lǐng)域中的最新發(fā)展,本版在以下幾方面增加了新的內(nèi)容:圖像處理、紋理合成、基于圖像的繪制技術(shù)和平行繪制技術(shù)等。此外還在以下幾方面擴展了內(nèi)容:選擇模式的交互操作、平滑動畫技術(shù)、面向?qū)ο蟮膱D形學(xué)和場景圖形以及光線跟蹤和輻射度繪制技術(shù)。本書可作為計算機及相關(guān)專業(yè)本科生和研究生的圖形學(xué)教材,也適合相關(guān)程序員、工程技術(shù)人員及科研人員使用。

作者簡介

  EdwaN Angel 新墨西哥州大學(xué)計算機科學(xué)、電子與計算機工程和傳播藝術(shù)教授。1968年獲南加利福尼亞大學(xué)博士學(xué)位。曾任教于南加州大學(xué)伯克利分校、南加州大學(xué)、羅切斯特大學(xué)。1978年在新墨西哥州大學(xué)任教,1982至1985年擔(dān)任新墨西哥州大學(xué)電子與計算機工程系副主任,1985至1988年擔(dān)任計算機科學(xué)系主任。是瑞士倫德科技學(xué)院、印度科學(xué)學(xué)院(班加羅爾)、倫敦大學(xué)學(xué)院、倫敦皇家學(xué)院的客座教授。出腋多本計算機圖形學(xué)方面的專著。Edward Angel曾給來自全世界各地數(shù)以千計的科學(xué)家、工程師和程序員短期講授計算機圖形學(xué)和圖像處理,并多次在SIGGRAPH會議上講授OpenGL。

圖書目錄

第1章 圖形系統(tǒng)和模型
1.1 計算機圖形學(xué)的應(yīng)用
1.1.1 信息顯示
1.1.2 設(shè)計
1.1.3 仿真與動畫
1.1.4 用戶界面
1.2 計算機圖形系統(tǒng)
1.2.1 像素與幀緩存
1.2.2 輸出設(shè)備
1.2.3 輸入設(shè)備
1.3 圖像:物理方法和人工合成方法
1.3.1 對象與觀察者
1.3.2 光照與圖像
1.3.3 光線跟蹤
1.4 人眼的視覺系統(tǒng)
1.5 針孔照相機
1.6 虛擬照相機模型
1.7 程序員接口
1.7.1 應(yīng)用程序開發(fā)人員的接口
1.7.2 筆式繪圖儀模型
1.7.3 三維API函數(shù)
1.7.4 彩圖介紹
1.7.5 建模一繪制模式
1.8 圖形系統(tǒng)的體系結(jié)構(gòu)
1.8.1 顯示處理器
1.8.2 流水線結(jié)構(gòu)
1.8.3 變換
1.8.4 裁剪
1.8.5 投影
1.8.6 光柵化
1.8.7 性能特性
1.9 小結(jié)
1.10 補充閱讀材料
習(xí)題
第2章 圖形學(xué)編程
2.1 Sierpinski鏤墊
2.2 二維應(yīng)用程序編程
2.3 OpenGLAPI工具包
2.3.1 圖形函數(shù)
2.3.2 圖形流水線和狀態(tài)機
2.3.3 OpenGL接口
2.4 圖元與屬性
2.4.1 多邊形基本概念
2.4.2 OpenGL里的多邊形類型
2.4.3 繪制球體
2.4.4 字符
2.4.5 曲線和曲面
2.4.6 屬性
2.5 顏色
2.5.1 RGB顏色
2.5.2 索引顏色
2.5.3 設(shè)置顏色屬性
2.6 視圖處理
2.6.1 二維視圖
2.6.2 正交視圖
2.6.3 矩陣模式
2.7 控制函數(shù)
……
第3章 輸入與交互
第4章 幾何對象與坐標(biāo)變換
第5章 視圖
第6章 明暗處理
第7章 從頂點到片元
第8章 離散技術(shù)
第9章 可編程著色器
第10章 建模
第11章 曲線與曲面
第12章 高級繪制
附錄A 實例程序
附錄B 空間
附錄C 矩陣
附錄D OPEN GL函數(shù)簡介
參考文獻

本目錄推薦

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