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當(dāng)前位置: 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)無線電電子學(xué)、電信技術(shù)模擬(影印版)

模擬(影印版)

模擬(影印版)

定 價(jià):¥45.00

作 者: (瑞士)格賓斯基(Grabinski,W.)等編著
出版社: 科學(xué)
叢編項(xiàng): 射頻集成電路設(shè)計(jì)的晶體管級建模
標(biāo) 簽: 集成電路

ISBN: 9787030182418 出版時(shí)間: 2007-01-01 包裝: 平裝
開本: B5 頁數(shù): 293 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  《模擬/射頻集成電路設(shè)計(jì)的晶體管級建模(影印版)》作者對于MOS 晶體管模型有很深刻的理解。第一章涉及2/3D工藝和器件仿真,以此作為理解半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)內(nèi)部行為的有力工具。在接下來的章節(jié)中,作者詳細(xì)討論了PSP 和EKV模型的主流發(fā)展,比較了基于物理的MOSFET模型和通常用于射頻電路的基于測量的模型,這些比較包括相關(guān)的經(jīng)驗(yàn)?zāi)P秃蜏y量模型。在后續(xù)的章節(jié)中,作者討論了小尺寸MOSFET器件的改善方法。最后,介紹了諸如VHDL-AMS 和 Verilog-A等硬件描述語言,說明了前述不同模型的實(shí)際可實(shí)現(xiàn)性及標(biāo)準(zhǔn)化。

作者簡介

暫缺《模擬(影印版)》作者簡介

圖書目錄

foreword
hiroshi iwai
introduction
wladek grabinski, bart nauwelaers and dominique schreurs
1 2/3-d process and device simulation. an effective tool for better understanding of internal behavior of semiconductor structures
daniel donoval, andrej vrbicky, ales chvala, and peter beno
2 psp: an advanced surface-potential-based mosfet model
r. van langevelde, and g. gildenblat
3 ekv3.0: an advanced charge based mos transistor model. a design-oriented mos transistor compact model for next generation cmos
matthias bucher, antonios bazigos, francois krummenacher,jean-micehl sallese, and christian enz
4 modelling using high-frequency measurements
dominique schreurs
5 empirical fet models
iltcho angelov
6 modeling the soi mosfet nonlinearities. an empirical approach
b. parvais, a. siligaris
7 circuit level rf modeling and design
nobuyuki itoh
8 on incorporating parasitic quantum effects in classical circuit simulations
frank felgenhauer, maik begoin and wolfgang mathis
9 compact modeling of the mosfet in vhdl-ams
christophe lallement, francois pecheux, alain vachoux and fabien pregaldiny
10 compact modeling in verilog-a
boris troyanovsky, patrick o'halloran and marek mierzwinski
index

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