本書的編寫是以作者原著《真空熱處理工藝與設備設計》和《先進熱處理制造技術》為基礎,對采用內容做了更正和補充;根據(jù)現(xiàn)代熱處理技術的新發(fā)展,增加了近幾年來真空與可控氣氛熱處理技術及計算機熱處理工藝設備控制技術領域的最新進展內容。主要包括:現(xiàn)代熱處理技術發(fā)展概況,真空滲氮技術,真空低壓滲碳技術,離子熱處理工藝,離子熱處理設備,VZKQ式多用途真空爐,VMKQ型連續(xù)式多室真空爐生產線,Modul Therm型往復式模塊化多用真空爐生產線,我國燃氣式真空爐技術研究開發(fā),WZDGQ30型單室真空高壓氣淬爐研制,真空爐強制對流加熱及連續(xù)高壓氣冷技術,WZLQH型真空鋁釬焊爐研制開發(fā),可控氣氛密封箱式多用爐技術,可控氣氛密封箱式多用爐生產應用經驗、設備保養(yǎng)和維護等。...