金剛石薄膜的制備與應(yīng)用

第1章 金剛石薄膜的結(jié)構(gòu)、特性及研究現(xiàn)狀
　1.1 金剛石薄膜的結(jié)構(gòu)
　1.2 金剛石薄膜的優(yōu)異特性
　1.3 金剛石薄膜的研究現(xiàn)狀
　1.4 金剛石薄膜發(fā)展前景
第2章 金剛石薄膜的合成方法
　2.1 微波等離子體法
　2.2 等離子體噴射法
　2.3 熱絲法
　2.4 其他CVD方法
第3章 異質(zhì)外延和高取向金剛石沉積
　3.1 在各種襯底上的異質(zhì)外延和高取向金剛石膜
　3.2 在SiC和Si上的成核和生長(zhǎng)
　3.3 選擇生長(zhǎng)和表面形貌
　3.4 異質(zhì)外延金剛石膜的電學(xué)性質(zhì)
第4章 金剛石薄膜的熱學(xué)、光學(xué)和力學(xué)性質(zhì)及應(yīng)用
　4.1 金剛石膜的熱學(xué)性質(zhì)及應(yīng)用
　4.2 金剛石膜的光學(xué)性質(zhì)及應(yīng)用
　4.3 金剛石膜的力學(xué)性質(zhì)及涂層刀具
第5章 CVD金剛石電子器件
　5.1 有源金剛石膜的生長(zhǎng)
　5.2 金剛石薄膜的摻雜
　5.3 金剛石歐姆接觸
　5.4 金剛石p-n結(jié)二極管
　5.5 肖特基二極管
　5.6 晶體管
　5.7 金剛石薄膜紫外光探測(cè)器
第6章 CVD金剛石膜冷陰極場(chǎng)電子發(fā)射
　6.1 電子親和勢(shì)和負(fù)電子親和勢(shì)
　6.2 場(chǎng)電子發(fā)射和冷陽(yáng)極制備
　6.3 場(chǎng)發(fā)射機(jī)理
第7章 金剛石薄膜X射線窗口和光刻掩模版
　7.1 用于X射線探測(cè)器的CVD金剛石窗口
　7.2 用于X射線管的CVD金剛石窗口
　7.3 用于X射線光刻掩模版的CVD金剛石
　7.4 總結(jié)與展望
第8章 金剛石膜溫度和壓力傳感器
　8.1 金剛石傳感器工藝
　8.2 金剛石溫度傳感器
　8.3 壓阻式金剛石傳感器
第9章 金剛石聲表面波（SAW）濾波器
　9.1 SAW　9.2 金剛石膜和SAW濾波器制作技術(shù)
　9.3 不同SAW結(jié)構(gòu)的理論結(jié)果
　9.4 金剛石SAW特性及其應(yīng)用
第10章 21世紀(jì)的CVD金剛石
　10.1 CVD金剛石工藝
　10.2 光學(xué)元件
　10.3 熱沉
　10.4 電子器件
　10.5 新型金剛石膜生長(zhǎng)技術(shù)
　10.6 CVD金剛石刀具
　10.7 碳納米管
參考文獻(xiàn)