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微光學元件、系統(tǒng)和應用

微光學元件、系統(tǒng)和應用

定 價:¥32.00

作 者: (瑞士)H.P.赫爾齊克(Hans Peter Herzig)主編;周海憲等譯;周海憲譯
出版社: 國防工業(yè)出版社
叢編項: 元件.系統(tǒng)和應用
標 簽: 化學工業(yè)

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ISBN: 9787118027884 出版時間: 2002-08-01 包裝: 精裝
開本: 21cm 頁數(shù): 411 字數(shù):  

內(nèi)容簡介

  本書是一部全面、系統(tǒng)地介紹20世紀g0年代以來所形成的微光學理論、微光學元件的最新加工技術(shù)、典型的微光學系統(tǒng)和發(fā)展趨勢的專著。全書可分三部分:第一部分闡述微光學元件的設計基礎和面浮雕光柵的精確衍射理論。第二部分介紹微光學元件的加工技術(shù)(第3章到第6章),包括二元光學技術(shù)、激光束寫技術(shù)、電子束寫技術(shù)、離子擴散技術(shù)、熱軟熔技術(shù)、復制技術(shù)和微米級的封裝技術(shù);在第7章介紹平面集成自由空間光學的基礎上,提出了(第8章)三維集成層疊光學的概念。第三部分給出了激光束調(diào)制成形微光學系統(tǒng)、形成點源陣列微光學系統(tǒng)、同時消熱和消像差的混合微光學系統(tǒng)及高空間頻率面浮雕光柵微光學系統(tǒng)。...

作者簡介

暫缺《微光學元件、系統(tǒng)和應用》作者簡介

圖書目錄

第1章折射和衍射微光學的設計
1.1引言.
1.2衍射光學元件和系統(tǒng)的設計
1.2.1相位函數(shù):描述和實現(xiàn)
1.2.2最佳設計
1.2.3系統(tǒng)設計
1.3衍射元件的折射特性
1.3.1閃耀光柵
1.3.2扇出元件
1.4衍射和折射透鏡
1.4.1透鏡的近軸特性
1.4.2折射和衍射光學元件的像差
1.4.3像差討論
1.5結(jié)論
參考文獻
第2章微雕刻光柵的衍射理論
2.1引言
2.2電磁光柵理論
2.2.1電磁理論原理
2.2.2光柵衍射問題
2.2.3調(diào)制區(qū)域以外的場
2.2.4調(diào)制區(qū)域內(nèi)的場
2.2.5邊界值求解
2.2.6數(shù)學上的考慮
2.3近似的光柵理論
2.3.1亞波長周期的光柵
2.3.2復振幅透過率方法
2.3.3薄光柵分解法
2.3.4局部平面波法
2.4光柵的衍射特性
2.4.1標量理論的有效性
2.4.2光柵分布的參量優(yōu)化
2.5調(diào)制光柵
2.5.1第一級調(diào)制
2.5.2零級調(diào)制
2.6結(jié)論
參考文獻
第3章二元光學元件的加工技術(shù)
3.1二元光學技術(shù)——一種制作衍射微光學元件的有效方法
3.2MIT林肯實驗室對二元光學元件的研究和應用
3.2.1相位浮雕結(jié)構(gòu)
3.2.2元光學元件
3.3二元光學元件設計和制造的理論基礎
3.3.1二元光學技術(shù)
3.3.2光刻術(shù)和基板圖刻技術(shù)
3.3.3二元光學元件的制造
3.4二元光學微透鏡陣列的特性
3.4.1制造技術(shù)和光學特性
3.4.2衍射微透鏡檢測設備
3.4.3效率的測量和討論
3.4.4制造誤差的影響
3.5深結(jié)構(gòu)形三維微光學元件的制造
3.5.1折射二元光學元件的制造
3.5.2連續(xù)分布微透鏡
3.5.3彩色識別用光學元件
3.6未來的發(fā)展方向
3.6.1微光學元件與電子和機械結(jié)構(gòu)的集成
3.6.2未來的系統(tǒng)——實現(xiàn)技術(shù)的集成和發(fā)展
參考文獻
第4章連續(xù)浮雕微光學元件直寫技術(shù)
4.1引言
4.2激光束直寫
4.2.1激光束直寫系統(tǒng)的設計
4.2.2光致抗蝕劑
4.2.3表面浮雕分布的保真度
4.2.4制造微光學元件實例
4.3電子束直寫
4.3.1系統(tǒng)設計和抗蝕劑工藝
4.3.2結(jié)果與實例
4.4其它的直寫技術(shù)
4.4.1聚焦離子束
4.4.2激光燒蝕
4.4.3激光淀積和蝕刻
4.4.4金剛石車削
4.4.5半色調(diào)掩模技術(shù)
4.5結(jié)論
參考文獻
第5章折射子透鏡陣列
5.1引言
5.2梯度折射率透鏡
5.3光熱技術(shù)
5.4熱軟熔
5.5光致抗蝕劑的“蝕刻”
5.6研磨和拋光..
5.7輔助技術(shù)
5.7.1增長焦距
5.7.2復制
5.7.3離子蝕刻(干蝕刻)
5.8測試和技術(shù)規(guī)范
5.9結(jié)論
參考文獻
第6章復制
6.1引言
6.2電鑄技術(shù)
6.3復制用材料
6.4熱壓
6.5模壓
6.6鑄造和紫外(UV)復制
6.7復制技術(shù)的比較
參考文獻
第7章平面集成自由空間光學
7.1為什么要集成?
7.2平面光學
7.3平面光學互連技術(shù)
7.3.1信號分配
7.3.2成像
7.3.3光電芯片和被動光學元件的混合集成
7.4公差
7.4.1基板的缺陷
7.4.2溫度變化
7.5平面光學的應用
7.6結(jié)論
參考文獻
第8章層疊式微光學系統(tǒng)
8.1引言
8.2微光學系統(tǒng)的設計
8.3層疊平面集成中折射微光學元件的加工技術(shù)
8.4微光學系統(tǒng)的封裝
8.5應用舉例
8.6結(jié)論
參考文獻
第9章激光束成形
9.1引言
9.2激光束成形的優(yōu)點
9.2.1使光束形狀與應用相匹配
9.2.2光束成形對激光系統(tǒng)的改進
9.3相干的外諧振腔技術(shù)
9.3.1單孔徑技術(shù)
9.3.2多孑乙徑技術(shù)
9.4激光諧振腔內(nèi)的光束成形
9.4.1單孔徑技術(shù)
9.4.2多孑乙徑技術(shù)
9.5結(jié)論
參考文獻
第10章混合(折射/衍射)光學
10.1引言
10.2消色差
10.2.1折射透鏡的色散
10.2.2消色差雙透鏡
10.2.3衍射透鏡的色散
10.2.4混合消色差
10.3消熱透鏡
10.3.1光熱膨脹系數(shù)
10.3.2混合消熱透鏡
10.3.3混合消熱消色差透鏡
10.4球差
10.5混合陣列發(fā)生器
10.5.1消熱陣列發(fā)生器
10.5.2消色差陣列發(fā)生器
10.6結(jié)論
參考文獻
第11章傅里葉陣列發(fā)生器
11.1引言
11.2應用
11.3一維陣列發(fā)生器
11.3.1二元相位陣列發(fā)生器
11.3.2連續(xù)相位陣列發(fā)生器
11.4二維陣列發(fā)生器
11.4.1設計算法
11.4.2其它的抽樣柵格
11.5加工方面的考慮
11.6結(jié)論
參考文獻
第12章高空間頻率面浮雕光柵的偏振變換特性及其應用
12.1引言
12.2偏振參量的定義
12.3零級層狀面浮雕光柵的偏振特性和應用
12.3.1偏振特性
12.3.2層狀零級光柵作為偏振元件的應用
12.3.3設計零級層狀光柵的近似方法
12.4結(jié)論
參考文獻...

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