工業(yè)激光技術(shù)

概述
上篇諧振腔技術(shù)
第1章M參數(shù)與光束質(zhì)量
1.1M2參數(shù)定義
1.2二階矩定義的光束參量傳輸變換理論
1.2.1D0和θ通過薄透鏡的變換
1.2.2與基模高斯光束的比較
1.2.3普遍的薄透鏡ABCD法則
1.2.4諧振腔中的諧振光束
1.2.5結(jié)論
1.3二階矩定義下的廣義ABC0法則
1.4各種典型實際光束的M2參數(shù)特性比較
1.4.1基模高斯光束具有M2參數(shù)的最小值
1.4.2M2參數(shù)的物理含義
1.4.3各種典型的實際高功率激光束的M2參數(shù)
1.5二階矩定義的光束參量變換理論及其推廣的設(shè)想
參考文獻(xiàn)
籌2章微變形腔鏡及晶體窗口
2.1激光腔內(nèi)光學(xué)元件熱變形理論模型
2.1.1激光作用下腔鏡的傳熱模型
2.1.2激光作用下鏡片的熱變形
2.1.3晶體窗口的傳熱分析
2.1.4腔內(nèi)光學(xué)元件熱變形對激光光束質(zhì)量的影響
2.2腔內(nèi)光學(xué)元件熱變形數(shù)值模擬
2.2.1有限差分法
2.2.2有限元方法
2.3腔鏡變形的實驗研究
2.3.1激光作用下水冷銅鏡的變形
2.3.2激光作用下硅鏡的熱變形
2.3.3相變致冷窗口的熱變形
2.4微變形腔鏡與窗口
2.4.1激光超薄多層鏡
2.4.2相變致冷強(qiáng)激光窗口
參考文獻(xiàn)
第3章氣動窗口
3.1引言
3.2引射加抽氣聯(lián)合式氣動窗口的工作原理
3.2.1抽氣節(jié)流式氣動窗口的工作原理
3.2.2引射式氣動窗口的工作原理
3.3引射式氣動窗口的氣動性能
3.3.1引射式氣動窗口的氣體質(zhì)量流量
3.3.2引射噴管出口截面馬赫數(shù)M.
3.3.3引射式氣動窗口的密封壓力比
3.3.4計算結(jié)果及分析
3.3.5計算結(jié)果和實驗結(jié)果的比較
3.4引射加抽氣聯(lián)合式氣動窗口的工作性能
3.4.1聯(lián)合式氣動窗口的密封性能
3.4.2聯(lián)合式氣動窗口的光束質(zhì)量
3.5小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第4章相位共軛鏡
4.1引言
4.2相位共軛原理
4.3受激布里淵散射理論
4.4相位共軛鏡
4.5具有光纖相位共軛鏡的振蕩／放大(MOPA)系統(tǒng)
4.6光纖相位共軛鏡的保真度和反射率
參考文獻(xiàn)
第5章高斯鏡諧振腔
5.1引言
5.2帶熱透鏡的高斯鏡諧振腔的光腔特性
及動態(tài)穩(wěn)定性
5.2.1光學(xué)矩陣分析
5.2.2光學(xué)特性參量
5.2.3動態(tài)穩(wěn)定性
5.3帶增益分布的高斯鏡諧振腔
5.3.1不均勻增益分布及增益飽和
5.3.2衍射積分模型
5.3.3衍射積分計算及其分析
5.4帶高斯鏡諧振腔的高功率固體激光器
5.4.1高斯鏡諧振腔和參數(shù)設(shè)計
5.4.2帶高斯鏡諧振腔固體激光器
5.4.3實驗結(jié)果及討論
參考文獻(xiàn)
中篇激光器
第6章高頻激勵CO：激光器
6.1引言
6.2高頻放電等離子體理論
6.3介質(zhì)電極的高頻放電
6.4阻抗匹配網(wǎng)絡(luò)
6.5高頻激勵CO激光器結(jié)構(gòu)和輸出特性
參考文獻(xiàn)
第7章擴(kuò)散冷卻CO激光器
7.1面積放大與射頻放電激勵技術(shù)
7.1.1面積放大概念
7.1.2射頻放電激勵技術(shù)
7.2平板波導(dǎo)型擴(kuò)散冷卻CO激光器
7.2.1平板波導(dǎo)內(nèi)場分布和傳播常數(shù)
7.2.2平板波導(dǎo)諧振腔的耦合損失
7.2.3平行平面腔的模式特征
7.2.4非穩(wěn)波導(dǎo)混合腔
7.2.5千瓦級輸出功率平板波導(dǎo)CO激光器
7.2.6高頻開關(guān)電源激勵的擴(kuò)散冷卻CO激光器
7.3同軸結(jié)構(gòu)擴(kuò)散冷卻CO激光器
7.3.1射頻功率傳輸中的阻抗匹配
7.3.2復(fù)曲面鏡傾斜非穩(wěn)諧振腔
7.3.3螺旋型反射鏡構(gòu)成的混合腔
7.3.4螺旋角向非穩(wěn)腔的幾何光學(xué)分析
7.4波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)
7.4.1一維波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)
7.4.2二維波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)
7.4.3平板波導(dǎo)陣列結(jié)構(gòu)
參考文獻(xiàn)
第8章磁約束放電高氣壓氣體激光器
8.1引言
8.2磁約束放電條件下的玻耳茲曼方程
8.3高氣壓氣體在電磁場作用下電子的運動及其傳輸系數(shù)
8.4高氣壓氣體在磁場作用下的旋轉(zhuǎn)流動
8.5磁約束放電激勵的XeCl準(zhǔn)分子激光器
8.6磁約束電激勵TEA-CO激光器
參考文獻(xiàn)
第9章大功率半導(dǎo)體激光器
9.1引言
9.2量子阱半導(dǎo)體激光器
9.3表面發(fā)射激光器
9.4大功率半導(dǎo)體激光器
9.5半導(dǎo)體激光器在應(yīng)用中的光學(xué)耦合系統(tǒng)
9.6半導(dǎo)體激光器的驅(qū)動電源
參考文獻(xiàn)
第10章二極管泵浦的固體激光器
10.1引言
10.2基本特點
10.2.1基本結(jié)構(gòu)
10.2.2二極管泵浦源的基本光學(xué)特性
10.2.3激活介質(zhì)的尺寸
10.3二極管端面泵浦的固體激光器
10.3.1泵浦光的耦合
10.3.2二極管端面泵浦激光器的特性
10.4二極管側(cè)面泵浦的固體激光器
參考文獻(xiàn)
下篇脈沖激光沉積薄膜技術(shù)
第11章脈沖激光沉積薄膜技術(shù)原理
11.1引言
11.2激光與固體的作用及所產(chǎn)生的等離子體
11.2.1激光與固體的作用
11.2.2激光與固體作用產(chǎn)生的等離子體
11.3脈沖激光沉積薄膜技術(shù)
11.3.1脈沖激光沉積薄膜系統(tǒng)及制備
11.3.2脈沖激光沉積薄膜技術(shù)的新發(fā)展
參考文獻(xiàn)
第12章激光沉積超導(dǎo)薄膜技術(shù)
12.1引言
12.2在金屬基片上激光沉積高溫超導(dǎo)薄膜
12.2.1激光沉積系統(tǒng)
12.2.2金屬基片的制備
12.2.3金屬基片上激光沉積YSZ／YBCO超導(dǎo)薄膜(無離子源輔助)
12.2.4金屬基片上激光沉積YSZ／YBCO超導(dǎo)薄膜(有離子源輔助)
12.2.5離子束輔助沉積取向薄膜的物理機(jī)理
12.2.6不銹鋼基底上激光輔助沉積YSZ薄膜
12.3超導(dǎo)薄膜微觀結(jié)構(gòu)的觀察及分析
12.3.1單晶基片上的超導(dǎo)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)觀察
12.3.2金屬基片上的超導(dǎo)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)觀察
12.3.3超導(dǎo)薄膜生長結(jié)構(gòu)的討論
12.3.4超導(dǎo)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)對臨界電流密度的影響
參考文獻(xiàn)
第13章激光掃描沉積大面積均勻薄膜技術(shù)
13.1引言
13.2激光掃描淀積基本原理
13.3激光圓掃描剝離沉積大面積薄膜系統(tǒng)
13.4激光復(fù)合掃描剝離時的膜厚分布
參考文獻(xiàn)
第14章脈沖激光沉積法制備非晶金剛石薄膜技術(shù)
14.1概述
14.2脈沖激光蒸發(fā)石墨靶產(chǎn)生的碳等離子體的診斷
14.3脈沖激光積法制備非晶金剛石薄膜技術(shù)
14.4非晶金剛石薄膜的表征
參考文獻(xiàn)